Der Begriff physikalische Gasphasenabscheidung (engl. physical vapour deposition, kurz PVD) bezeichnet eine Gruppe von
vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien.
Anders als bei der chemischen Gasphasenabscheidung wird mithilfe physikalischer Verfahren das Beschichtungsmaterial in die Gasphase überführt.
Das gasförmige Material wird anschließend auf das zu beschichtende Substrat geführt, wo es kondensiert und die Zielschicht bildet.
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